产品介绍

以等离子体为热源将相应粉末加热到熔融或半熔融状态并高速冲击背管表面形成致密涂层，从而制备出高纯度、高致密度Si靶材。

应用领域

用于制作SiO₂/Si₃N₄膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，Low-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏。